8月25日晚間，拓荊科技發布2025年半年度報告。

據披露，2025年上半年，公司實現營業收入19.54億元，同比增長54.25%，其中第二季度單季營業收入達到12.45億元，同比增長56.64%，環比第一季度增長75.74%，呈現加速增長態勢。主要原因如下：產品競爭力持續提升，公司先進制程的驗證機臺已順利通過客戶認證，逐步進入規模化量產階段。基于新型設備平臺（PF-300T Plus和PF-300M）和新型反應腔（pX和Supra-D）的PECVD Stack（ONO疊層）、ACHM及PECVD Bianca等先進工藝設備，陸續通過客戶驗收，量產規模不斷增加，ALD設備持續擴大量產規模，業務增長強勁。

市場拓展方面，公司持續優化客戶結構，在鞏固國內龍頭晶圓廠合作的同時，成功導入新客戶，市場滲透率進一步提升。截至報告期末，合同負債達45.36億元，相較2024年年末增長52.07%，主要系在手訂單增加所致，為后續收入持續增長奠定了基礎。

利潤方面，2025年上半年，公司實現歸屬于上市公司股東的凈利潤9428.80萬元，同比降低26.96%，其中第二季度實現歸屬于上市公司股東的凈利潤2.41億元，同比增長103.37%，環比第一季度增加3.88億元，業績改善顯著，主要原因為：2025年上半年歸屬于上市公司股東的凈利潤同比下降，主要系2025年第一季度歸屬于上市公司股東的凈利潤大幅下滑所致，因2025年第一季度確認收入的新產品、新工藝的設備在客戶驗證過程成本較高，毛利率較低。隨著公司新產品驗證機臺完成技術導入并實現量產突破和持續優化，2025年第二季度毛利率環比大幅改善，呈現穩步回升態勢；隨著公司運營效率的逐步提升，期間費用率同比下降，規模效應進一步釋放利潤空間等。

研發方面，公司報告期內的研發投入金額達到3.49億元，同比增長11.09%，研發投入占營業收入比例為17.87%。

拓荊科技自設立以來，一直在高端半導體專用設備領域持續深耕，聚焦薄膜沉積設備和應用于三維集成領域的先進鍵合設備及配套量檢測設備的研發與產業化應用。目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉積設備產品，以及應用于三維集成領域的先進鍵合設備和配套的量檢測設備產品，薄膜沉積設備產品已廣泛應用于國內集成電路邏輯芯片、存儲芯片等制造產線，先進鍵合設備和配套的量檢測設備產品已在先進存儲、圖像傳感器（CIS）等領域實現量產。

隨著芯片技術的迭代升級，公司先進產品和量產規模不斷攀升，截至報告披露日，公司累計出貨超過3000個反應腔（包括超過340個新型反應腔pX和Supra-D），進入超過70條生產線；公司薄膜沉積設備在客戶端產線生產產品的累計流片量已突破3.43億片。